| 摘要 |
1. Способ получения микроструктур, включающий нанесение на подложку слоя материала-основы для получения в нем заданного изображения, облучение материала-основы и последующее его травление, причем в качестве материала-основы используют материал, способный под действием облучения изменять свое фазовое состояние, отличающийся тем, что в качестве материала-основы используют хром, поверх хрома наносят слой резиста, формируют в нем защитную маску, через которую далее облучают хром, при этом облучение хрома производят ионами, образующимися в плазме смеси аргона и хладона 218.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве материала подложки используют стекло.3. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве фоторезиста используют халькогенид.4. Способ по п.1, отличающийся тем, что травление хрома осуществляют в кислом травителе. |
