| 发明名称 | 镍合金溅射靶及镍硅化物膜 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种镍合金溅射靶以及由该靶形成的镍硅化物膜，所述镍合金溅射靶可以形成热稳定的硅化物(NiSi)膜，难以引起膜的凝聚或过量硅化物化，另外在形成溅射膜时粉粒的产生少，均匀性也良好，并且加工为靶时的塑性加工性良好，特别是对栅极材料(薄膜)的制造有用。一种镍合金溅射靶，其特征在于，含有22～46重量％的铂，以及5～100重量ppm的选自铱、钯、钌的一种以上的成分，其余包含镍及不可避免的杂质。 | ||
| 申请公布号 | CN102165094B | 申请公布日期 | 2014.03.05 |
| 申请号 | CN201080002740.9 | 申请日期 | 2010.01.22 |
| 申请人 | JX日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 山越康广 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C22C19/03(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L21/285(2006.01)I;C22B9/22(2006.01)I;C22B23/06(2006.01)I;C22F1/10(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;穆德骏 |
| 主权项 | 一种镍合金溅射靶，其特征在于，含有22～46重量%的铂，以及以总量计5～100重量ppm的铱、钯、钌，其余包含镍及不可避免的杂质。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||