发明名称 |
曝光机的玻璃基板支撑机构 |
摘要 |
本实用新型公开了一种曝光机的玻璃基板支撑机构,包括基座、安装在基座顶部且用于支撑玻璃基板的支撑平台、安装在基座四周,用于支撑玻璃基板四周的支撑杆、以及安装在所述玻璃基板上方的至少一个吸附装置;吸附装置用于吸附玻璃基板的上表面并可沿竖直方向运动与水平方向运动。实施本实用新型的有益效果是:玻璃基板支撑机构采用支撑平台的结构,其整体性好、温度均匀,有利于玻璃基板的HVA光配向;再者,玻璃基板支撑机构采用吸附装置的结构在二分割支撑方式和三分割支撑方式之间切换时,其操作简便、工作效率高。 |
申请公布号 |
CN203117640U |
申请公布日期 |
2013.08.07 |
申请号 |
CN201320126319.X |
申请日期 |
2013.03.19 |
申请人 |
深圳市华星光电技术有限公司 |
发明人 |
刘小成 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G02F1/1337(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 |
代理人 |
蔡晓红;林俭良 |
主权项 |
一种曝光机的玻璃基板支撑机构,包括基座、安装在所述基座顶部且用于支撑玻璃基板的支撑平台、以及安装在所述基座四周,用于支撑在所述玻璃基板底部四周的支撑杆;其特征在于:所述曝光机的玻璃基板支撑机构还包括安装在所述玻璃基板上方的至少一个吸附装置;每个所述吸附装置用于吸附所述玻璃基板的上表面并可沿竖直方向与水平方向运动。 |
地址 |
518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号 |