含聚酰胺酸的形成下层防反射膜的组合物

摘要

本发明的目的在于提供形成下层防反射膜的组合物，该组合物用于形成在制造半导体器件的光刻工艺中使用的下层防反射膜，所述下层防反射膜在光致抗蚀剂的显影中使用的碱性显影液的作用下能够显影，并提供使用该形成下层防反射膜的组合物的光致抗蚀剂图案的形成方法。本发明的形成下层防反射膜的组合物含有，聚酰胺酸、具有至少两个环氧基的化合物、对波长为365nm的光的摩尔吸光系数为5000～100000（1/mol·cm）的吸光性化合物、和溶剂。

主权项

1.一种形成下层防反射膜的组合物，该组合物用于形成能够通过碱性显影液与光致抗蚀剂一起显影的下层防反射膜，其特征在于，含有具有式（1）和式（2）所示结构的聚酰胺酸：式中，A₁和A₂表示4价的有机基团，B₁表示3价的有机基团，B₂表示2价的有机基团、具有至少两个环氧基的化合物、对波长为365nm的光的摩尔吸光系数为5000～100000（1/mol·cm）的吸光性化合物、和溶剂，上述聚酰胺酸是通过（a）四羧酸二酐化合物、（b）具有至少1个羧基的二胺化合物、和（c）二胺化合物反应制造的聚酰胺酸，其中（b）具有至少1个羧基的二胺化合物在使用的全部二胺化合物中所占的比例为10～60质量%，所述吸光性化合物是选自2-(4-二乙基氨基-2-羟基苯甲酰基)苯甲酸、2-(4-二丁基氨基-2-羟基苯甲酰基)苯甲酸、2,2’,4,4’-四羟基二苯甲酮、2,3,3’,4,4’,5’-六羟基二苯甲酮、地衣酸、苯芴酮、玫红酸、1,8,9-三羟基蒽、2-(4-羟基苯基偶氮)苯甲酸、甲基红、4,4’-二氨基二苯甲酮、5,5’-亚甲基-二（2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮）、3,4-二氨基二苯甲酮和α-氨基-4-羟基肉桂酸中的化合物。