发明名称 |
提高导热和过流能力的基板制作方法 |
摘要 |
一种提高导热和过流能力的基板制作方法,是在BeO材料片正面溅射Ti层和Cu层,光刻BeO基板的导带图形;电镀Cu层和Ni层,带胶溅射Au层;去光刻胶,腐蚀Cu/Ti,在所述BeO基板的背面溅射Ti、Ni和Au层,形成一种兼顾高导热能力和高过流能力的基板,大幅提高了基板的过流能力和耐焊性,基板热导率大于200W/m·K,过流能力为15A/mm,热膨胀系数和硅材料相当。本发明方法适用于大功率电路工艺制造领域。 |
申请公布号 |
CN102833950A |
申请公布日期 |
2012.12.19 |
申请号 |
CN201210336658.0 |
申请日期 |
2012.09.12 |
申请人 |
中国电子科技集团公司第二十四研究所 |
发明人 |
罗驰;刘欣;唐喆;叶冬;徐学良 |
分类号 |
H05K3/00(2006.01)I;H05K3/16(2006.01)I;H05K3/24(2006.01)I |
主分类号 |
H05K3/00(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种提高导热和过流能力的基板制作方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)准备BeO材料片、溅射Ti层和Cu层、光刻BeO基板的导带图形、电镀Cu层和Ni层,形成BeO基板的导带层,其中,BeO材料片上溅射Ti层和Cu层后,形成所述BeO基板,在BeO基板表面兼顾传输电流、元器件安装、引线互联功能的金属结构称为导带;(2)在BeO基板上带光刻胶溅射Au层、去光刻胶、腐蚀导带区域外的Ti层和Cu层,形成完整的导带区域;(3)在所述BeO基板的背面溅射Ti、Ni和Au层、形成功率基板的背面金属化结构。 |
地址 |
400060 重庆市南岸区南坪花园路14号 |