发明名称 集成电路的封环结构
摘要 本发明提供集成电路的多种封环结构,其中一种封环结构包括:封环,沿着集成电路的周边排列,其中,封环至少包括第一部分和第二部分,第二部分位于模拟和/或射频电路块的外侧,且第二部分将模拟和/或射频电路块进行屏蔽;P+区域,形成于P型衬底中,P+区域位于第二部分之下;以及浅沟隔离结构,围绕着P+区域并横向延伸至第二部分的导电环壁的底部。本发明提供的集成电路的封环结构能减少衬底的噪声耦合。
申请公布号 CN101593737B 申请公布日期 2012.04.04
申请号 CN200910136291.6 申请日期 2009.05.05
申请人 联发科技股份有限公司 发明人 李东兴;张添昌;钟元鸿
分类号 H01L23/31(2006.01)I;H01L23/552(2006.01)I 主分类号 H01L23/31(2006.01)I
代理机构 北京万慧达知识产权代理有限公司 11111 代理人 葛强;张一军
主权项 一种集成电路的封环结构,其特征在于,该封环结构包括:封环,沿着该集成电路的周边排列,其中,该封环至少包括第一部分和第二部分,该第二部分位于模拟和/或射频电路块的外侧,且该第二部分将该模拟和/或射频电路块进行屏蔽,其中,该第二部分的导电环壁包括堆叠的硅层、金属层或接触/通孔层;P+区域,形成于P型衬底中,该P+区域位于该第二部分之下;以及浅沟隔离结构,围绕该P+区域并横向延伸至该第二部分的导电环壁的该硅层的底部。
地址 中国台湾新竹市新竹科学工业园区笃行一路一号