发明名称 | 射频MOS变容器的模拟方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种射频MOS变容器的模拟方法,建立一射频MOS变容器仿真模型,利用所述射频MOS变容器仿真模型对射频MOS变容器进行模拟,模拟射频MOS变容器的电容值随电压变化而变化的特性,所述射频MOS变容器仿真模型的拓扑结构中的可变电容的模型由同类型的MOS器件模型进行模拟,所述同类型的MOS器件模型,栅端是可变电容的一端,源漏并接作为可变电容的另一端,体端接地。本发明的射频MOS变容器的模拟方法,避免了仿真中出现不收敛的情况,同时实现了等比例缩放,有效的实现了模型的可扩展性,降低了射频MOS变容器建模的复杂程度,方便了射频集成电路的设计。 | ||
申请公布号 | CN102117352A | 申请公布日期 | 2011.07.06 |
申请号 | CN201010027224.3 | 申请日期 | 2010.01.05 |
申请人 | 上海华虹NEC电子有限公司 | 发明人 | 王生荣 |
分类号 | G06F17/50(2006.01)I | 主分类号 | G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人 | 王江富 |
主权项 | 一种射频MOS变容器的模拟方法,建立一射频MOS变容器仿真模型,利用所述射频MOS变容器仿真模型对射频MOS变容器进行模拟,模拟射频MOS变容器的电容值随电压变化而变化的特性,其特征在于,所述射频MOS变容器仿真模型的拓扑结构中的可变电容的模型由同类型的MOS器件模型进行模拟,所述同类型的MOS器件模型,栅端是可变电容的一端,源漏并接作为可变电容的另一端,体端接地。 | ||
地址 | 201206 上海市浦东新区川桥路1188号 |