发明名称 射频MOS变容器的模拟方法
摘要 本发明公开了一种射频MOS变容器的模拟方法,建立一射频MOS变容器仿真模型,利用所述射频MOS变容器仿真模型对射频MOS变容器进行模拟,模拟射频MOS变容器的电容值随电压变化而变化的特性,所述射频MOS变容器仿真模型的拓扑结构中的可变电容的模型由同类型的MOS器件模型进行模拟,所述同类型的MOS器件模型,栅端是可变电容的一端,源漏并接作为可变电容的另一端,体端接地。本发明的射频MOS变容器的模拟方法,避免了仿真中出现不收敛的情况,同时实现了等比例缩放,有效的实现了模型的可扩展性,降低了射频MOS变容器建模的复杂程度,方便了射频集成电路的设计。
申请公布号 CN102117352A 申请公布日期 2011.07.06
申请号 CN201010027224.3 申请日期 2010.01.05
申请人 上海华虹NEC电子有限公司 发明人 王生荣
分类号 G06F17/50(2006.01)I 主分类号 G06F17/50(2006.01)I
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人 王江富
主权项 一种射频MOS变容器的模拟方法,建立一射频MOS变容器仿真模型,利用所述射频MOS变容器仿真模型对射频MOS变容器进行模拟,模拟射频MOS变容器的电容值随电压变化而变化的特性,其特征在于,所述射频MOS变容器仿真模型的拓扑结构中的可变电容的模型由同类型的MOS器件模型进行模拟,所述同类型的MOS器件模型,栅端是可变电容的一端,源漏并接作为可变电容的另一端,体端接地。
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