| 发明名称 | 灰化装置 | ||
| 摘要 | 一种防止处理效率下降的灰化装置。喷板(31)朝向保持基底(W)的基底台(20)，并且使供给至腔室(11)的氧自由基扩散。设在喷板(31)和基底台(20)之间的金属阻挡板(34)包括氧自由基穿过的通孔(41)。金属阻挡板的朝向基底(W)的表面上还包括第一层(34b)，所述第一层由与从所述基底曝露的金属种类相同的金属构成。 | ||
| 申请公布号 | CN101689496A | 申请公布日期 | 2010.03.31 |
| 申请号 | CN200780036833.1 | 申请日期 | 2007.12.26 |
| 申请人 | 株式会社爱发科 | 发明人 | 植田昌久;栗本孝志;石川道夫;邹红罡;余吾锐哉 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 | 代理人 | 段迎春 |
| 主权项 | 1.一种在处理室中对基底上的有机材料进行灰化的灰化装置，所述基底包括曝露的金属，所述灰化装置包括：保持所述基底的台；朝向所述台的扩散板，所述扩散板对供给至所述处理室的活性物种进行扩散，并且包括所述活性物种穿过的第一通孔；及设在所述台与所述扩散板之间的多孔板，其中所述多孔板包括第一层和第二通孔，所述第一层朝向所述基底并且由与从所述基底曝露的金属种类相同的金属构成，并且所述活性物种穿过所述第二通孔。 | ||
| 地址 | 日本国神奈川县 | ||