| 发明名称 | 化学机械抛光用纳米氧化铈浆液及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光用纳米氧化铈浆液及其制备方法，所述纳米氧化铈浆液，含有如下重量份的组分：酸性pH调节剂10-25份，分散剂0.1-0.8份，纳米氧化铈粉末74.2-89.8份。与现有技术相比，本发明提供的纳米氧化铈抛光液具有氧化铈中位粒径小，粒度分布范围窄，耐磨性高，抛光选择性高，制品精度高等优点。 | ||
| 申请公布号 | CN101608097A | 申请公布日期 | 2009.12.23 |
| 申请号 | CN200910054796.8 | 申请日期 | 2009.07.14 |
| 申请人 | 上海华明高纳稀土新材料有限公司 | 发明人 | 赵月昌;吴秋芳;高玮;陈曦;杨筱琼;顾捐永;张鹏;李冉 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 | 代理人 | 罗大忱 |
| 主权项 | 1.化学机械抛光用纳米氧化铈浆液，为一种水性浆液，其特征在于，含有如下重量份的组分：酸性pH调节剂 10-25份分散剂 0.1-0.8份纳米氧化铈粉末 74-90份。 | ||
| 地址 | 201613上海市松江区繁华路81号 | ||