| 发明名称 | 涂胶显影设备的监测方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种涂胶显影设备的监测方法，该涂胶显影设备包括涂胶单元、中间单元和手臂传送单元，其中手臂传送单元包括手臂传送单元，该方法包括步骤：将第一晶片传送到中间单元，将第二晶片传送到涂胶单元，并对第二晶片进行涂胶操作；将第二晶片从涂胶单元取入手臂传送单元内；将第一晶片从中间单元取入手臂传送单元内；对第一晶片进行测试，根据测试结果进行判断，当第一晶片表面的球状颗粒的数量大于监测值为不合格，否则为合格。本发明的技术方案可以及时发现涂胶显影设备带来的晶片球状缺陷的情况，因此可以及时对涂胶显影设备进行调整，从而减少了对晶片的浪费，同时也减少了球形缺陷，提高了生产效率。 | ||
| 申请公布号 | CN101593668A | 申请公布日期 | 2009.12.02 |
| 申请号 | CN200810113663.9 | 申请日期 | 2008.05.29 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 | 发明人 | 张建峰 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I;G03F7/16(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李 丽 |
| 主权项 | 1、一种涂胶显影设备的监测方法，其特征在于，该方法包括步骤：将第一晶片传送到中间单元，将第二晶片传送到涂胶单元，并对第二晶片进行涂胶操作；将第二晶片从涂胶单元取入手臂传送单元内；将第一晶片从中间单元取入手臂传送单元内；对第一晶片进行测试，根据测试结果进行判断，当第一晶片表面的球状颗粒的数量大于监测值为不合格，否则为合格。 | ||
| 地址 | 100176北京市北京经济技术开发区文昌大道18号 | ||