基于多光刻胶有效扩散长度的光学临近修正模型校准方法

摘要

一种基于多光刻胶有效扩散长度的光学临近修正模型校准方法，包括校准数据量测，使用一维图形数据校准光学模型，判断图形为一维图形还是二维图形，若为一维图形，则使用一维图形数据校准一维光刻胶模型，若为二维图形，则使用二维图形数据校准二维光刻胶模型，判断采样点仿真误差是否在设定的范围内，模型验证和模型输出，本发明将一维图形和二维图形分开处理，根据实际的图形使用相应的有效扩散长度，降低了校准误差，提高了校准的精度。

主权项

1.一种基于多光刻胶有效扩散长度的光学临近修正模型校准方法，其特征在于包括：步骤S21：校准数据量测；步骤S22：使用一维图形数据校准光学模型；步骤S23：判断图形为一维图形还是二维图形，若为一维图形，则转入步骤S24，若为二维图形，则转入步骤S25；步骤S24：使用一维图形数据校准一维光刻胶模型，转入步骤S26；步骤S25：使用二维图形数据校准二维光刻胶模型，转入步骤S26；步骤S26：判断采样点仿真误差是否在设定的范围内，若在设定的范围内，则进行下一步骤，若不在，则转向步骤S22；步骤S27：模型验证；步骤S28：判断验证结果是否在设定的范围内，若在设定的范围内，则进行下一步骤，若不在，则转向步骤S22；步骤S29：模型输出。