发明名称 正型感光性树脂组成物
摘要 本发明兹提供一种具高纯度之聚苯并唑前驱体,其不含离子性副产物。以上之苯并唑前驱体包括式(1)表示之重复单位:其中A1表示四价芳族基;键结至A1之N与OH成对,而且重复之N与OH对键结至在相同之芳族环上彼此相邻之碳;A2表示二价有机基;及n表示2至300之数目。
申请公布号 TWI298426 申请公布日期 2008.07.01
申请号 TW091134249 申请日期 2002.11.26
申请人 关西油漆股份有限公司 发明人 上田充;江原和也;宫川坚次;山中一男;米原洋一
分类号 G03F7/039(2006.01);C08G73/22(2006.01) 主分类号 G03F7/039(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;何秋远 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 1.一种正型感光性树脂组成物,其系包含具有式(1) 所示重复单位之聚苯并唑前驱体: 其中A1表示四价芳族基;键结至A1之N与OH成对,而且 重复之N与OH对键结至在相同之芳族环上彼此相邻 之碳;A2表示二价有机基;及n表示2至300之数,及感光 性二叠氮化合物。 2.如申请专利范围第1项之正型感光性树脂组成物, 其中A1系选自于下列所成之族群: 其中X与Y各独立地选自-CH2-、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、 -SO2NH-、-CO-、-CO2-、-NHCO-、-NHCONH-、-C(CF3)2-、-CF2- 、-C(CH3)2-、-CH(CH3)-、-C(CF3)(CH3)-、-Si(R21)2-、-O-Si(R 21)2-O-、-Si(R21)2-O-Si(R22)2-、-(CH2)a-Si(R21)2-O-Si(R22)2-( CH2)a-(其中a为0至6之整数)、与直接键;R1至R14、R21 与R22各独立地表示H、F、具有1至6个碳原子之烷基 或烷氧基、或-(CF2)b-CF3或-O-(CF2)b-CF3(其中b为0至5之 整数);及p与q各为0至3之整数。 3.如申请专利范围第1项之正型感光性树脂组成物, 其中A1系为选自(2-1)至(2-6)及(2-10)至(2-12)之基。 4.如申请专利范围第1项之正型感光性树脂组成物, 其中A2系选自于下列所成之族群: 其中X与Y各独立地选自-CH2-、-O-、-S-、-SO-、-SO2、- SO2NH-、-CO-、-CO2-、-NHCO-、-NHCONH-、-C(CF3)2-、-CF2-、 -C(CH3)2-、-CH(CH3)-、-C(CF3)(CH3)-、-Si(R21)2-、-O-Si(R21)2 -O-、-Si(R21)2-O-Si(R22)2-、-(CH2)a-Si(R21)2-O-Si(R22)2-(CH2)a -(其中a为0至6之整数)、与直接键;R1至R16、R21与R22 各独立地表示H、F、具有1至6个碳原子之烷基或烷 氧基、或-(CF2)b-CF3或-O-(CF2)b-CF3(其中b为0至5之整数 );Z表示-CH2-、-C2H4-或-CH2=CH2-:及p与q各为0至3之整数 。 5.如申请专利范围第1项之正型感光性树脂组成物, 其中A2为选自式(3-1)至(3-8)、(3-12)至(3-22)、及(3-25) 、(3-27)至(3-29)之基。 6.一种图案形成方法,其系包括依序进行将如申请 专利范围第1项之正型感光性树脂组成物涂覆于基 板上,以在上述之基板上形成正型感光膜之步骤, 及使以上之正型感光膜经图案光罩曝光之步骤,及 以硷性显影溶液将以上之曝光正型感光膜显影之 步骤。 图式简单说明: 第1图显示由在实例1得到之聚甲亚胺溶液(A)形成 之膜在加热前后之吸光测定光谱。 第2图显示由在实例1得到之聚甲亚胺溶液(A)与在 比较例1得到之多羟基胺溶液(C)形成之膜在加热后 之吸光测定光谱。 第3图显示在实例1得到之聚甲亚胺溶液(A)之IR分析 图表。 第4图显示由在实例1得到之聚甲亚胺溶液(A)形成 之膜在加热后之IR分析图表。 第5图显示在比较例1得到之多羟基胺溶液(C)之IR分 析图表。 第6图显示由在比较例1得到之多羟基胺溶液(C)形 成之膜在加热后之IR分析图表。
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