发明名称 |
部分镀敷方法、部分镀敷树脂基材以及多层电路基板的制造方法 |
摘要 |
本发明涉及在树脂基材表面上形成图案状镀敷层的部分镀敷方法。本发明的部分镀敷方法包括下列各工序:对树脂基材表面进行氧化处理的工序;在氧化处理面上,按图案状附着具有能与金属原子或金属离子配位的结构的化合物,形成起始图案的工序;采用化学镀敷法,在起始图案上形成镀敷层的工序;根据需要,使镀敷层成长至所希望的厚度的工序。另外,本发明涉及利用这种方法得到的部分镀敷树脂基材、利用部分镀敷法的多层电路基板的制造方法。 |
申请公布号 |
CN100383278C |
申请公布日期 |
2008.04.23 |
申请号 |
CN03804801.9 |
申请日期 |
2003.02.27 |
申请人 |
日本瑞翁株式会社 |
发明人 |
胁坂康寻 |
分类号 |
C23C18/20(2006.01) |
主分类号 |
C23C18/20(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
张平元;赵仁临 |
主权项 |
1.一种部分镀敷方法,该方法是在树脂基材表面形成图案状的镀敷层的部分镀敷方法,其特征在于该方法包括以下工序:i)氧化处理树脂基材表面的工序1;ii)在树脂基材表面的氧化处理面上,按图案状附着具有能与金属原子或金属离子配位的结构的化合物,形成起始图案的工序2;iii)采用化学镀敷法,在起始图案上形成镀敷层的工序3;以及iv)任选再用化学镀敷法或电解镀敷法,使镀敷层成长至所希望的厚度的工序4。 |
地址 |
日本东京都 |