发明名称 |
图案形成装置、标记检测装置、曝光装置、图案形成方法、曝光方法及元件制造方法 |
摘要 |
空间像测量装置,其一部分设于晶圆载台(WST),且剩下之一部分设于测量载台(MST),用以测量透过投影光学系统(PL)而形成之标记的空间像。因此,可在藉由空间像测量装置来测量投影光学系统(PL)之最佳聚焦位置时,将设有空间像测量装置一部分之晶圆载台在与投影光学系统之光轴(AX)平行之方向的位置,当作其最佳聚焦位置之基准来进行测量。因此,再以照明光(IL)使物体(W)曝光时,系根据该最佳聚焦位置之测量结果,以高精度调整晶圆载台(WST)在与光轴(AX)平行之方向的位置。 |
申请公布号 |
TW200745773 |
申请公布日期 |
2007.12.16 |
申请号 |
TW096106386 |
申请日期 |
2007.02.26 |
申请人 |
尼康股份有限公司 |
发明人 |
柴崎佑一 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03F7/213(2006.01);G03F9/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
桂齐恒;阎启泰 |
主权项 |
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地址 |
日本 |