发明名称 图案形成装置、标记检测装置、曝光装置、图案形成方法、曝光方法及元件制造方法
摘要 空间像测量装置,其一部分设于晶圆载台(WST),且剩下之一部分设于测量载台(MST),用以测量透过投影光学系统(PL)而形成之标记的空间像。因此,可在藉由空间像测量装置来测量投影光学系统(PL)之最佳聚焦位置时,将设有空间像测量装置一部分之晶圆载台在与投影光学系统之光轴(AX)平行之方向的位置,当作其最佳聚焦位置之基准来进行测量。因此,再以照明光(IL)使物体(W)曝光时,系根据该最佳聚焦位置之测量结果,以高精度调整晶圆载台(WST)在与光轴(AX)平行之方向的位置。
申请公布号 TW200745773 申请公布日期 2007.12.16
申请号 TW096106386 申请日期 2007.02.26
申请人 尼康股份有限公司 发明人 柴崎佑一
分类号 G03F7/20(2006.01);G03F7/213(2006.01);G03F9/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项
地址 日本