发明名称 薄膜电晶体及其制造方法
摘要 本发明公开一种薄膜电晶体,其包括一基底、一源极、一汲极、一通道区域、一闸极绝缘层、一钝化层及一闸极,该源极、汲极及通道区域形成于该基底上且位于同一层,该通道区域位于该源极及汲极之间,该闸极绝缘层形成于该通道区域上,该钝化层形成于该源极、汲极及通道区域上,且位于该闸极绝缘层两侧,该钝化层介电常数小于闸极绝缘层介电常数,该闸极形成于该闸极绝缘层及部份钝化层上,且与该通道区域对应。该薄膜电晶体漏电流较小、可靠性高。本发明还提供该薄膜电晶体之制造方法。
申请公布号 TW200739914 申请公布日期 2007.10.16
申请号 TW095112469 申请日期 2006.04.07
申请人 群创光电股份有限公司 发明人 颜硕廷
分类号 H01L29/786(2006.01);H01L21/336(2006.01);H01L21/8234(2006.01) 主分类号 H01L29/786(2006.01)
代理机构 代理人
主权项
地址 苗栗县竹南镇新竹科学园区科学路160号