发明名称 | 薄膜电晶体及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明公开一种薄膜电晶体,其包括一基底、一源极、一汲极、一通道区域、一闸极绝缘层、一钝化层及一闸极,该源极、汲极及通道区域形成于该基底上且位于同一层,该通道区域位于该源极及汲极之间,该闸极绝缘层形成于该通道区域上,该钝化层形成于该源极、汲极及通道区域上,且位于该闸极绝缘层两侧,该钝化层介电常数小于闸极绝缘层介电常数,该闸极形成于该闸极绝缘层及部份钝化层上,且与该通道区域对应。该薄膜电晶体漏电流较小、可靠性高。本发明还提供该薄膜电晶体之制造方法。 | ||
申请公布号 | TW200739914 | 申请公布日期 | 2007.10.16 |
申请号 | TW095112469 | 申请日期 | 2006.04.07 |
申请人 | 群创光电股份有限公司 | 发明人 | 颜硕廷 |
分类号 | H01L29/786(2006.01);H01L21/336(2006.01);H01L21/8234(2006.01) | 主分类号 | H01L29/786(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
地址 | 苗栗县竹南镇新竹科学园区科学路160号 |