| 发明名称 |
Herstellungsverfahren einer photoelektrischen Dünnschicht-Umwandlungsanordnung aus amorphem Silizium |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE69932227(D1) |
申请公布日期 |
2006.08.17 |
| 申请号 |
DE1999632227 |
申请日期 |
1999.09.03 |
| 申请人 |
KANEKA CORP. |
发明人 |
YOSHIMI, MASASHI;YAMAMOTO, KENJI |
| 分类号 |
H01L31/04;H01L31/20;H01L31/075 |
主分类号 |
H01L31/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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