发明名称 MRAM und Verfahren zu dessen Herstellung
摘要 Es wird eine MRAM (1) mit einem Substrat (16), auf/über dem eine Anzahl von Wortleitungen (RWL), eine Anzahl von Bitleitungen (BL), eine Anzahl von Speicherzellen (5) und eine Anzahl vertikaler Zugriffselemente (17) vorhanden sind, angegeben; wobei jede Speicherzelle einen widerstandsbehafteten Schnittpunkt einer Wortleitung und einer Bitleitung bildet und wobei jede Speicherzelle in solcher Weise mit einem vertikalen Zugriffselement verbunden ist, dass von einer Wortleitung zu einer Bitleitung über die entsprechende Speicherzelle ein leitender Pfad gebildet wird. DOLLAR A Das Substrat, zumindest ein Teil der Wortleitungen (RWL) oder zumindest ein Teil der Bitleitungen (BL) und zumindest ein Teil der vertikalen Zugriffselemente sind als gemeinsamer, einkristalliner Halbleiterblock ausgebildet.
申请公布号 DE102005035152(A1) 申请公布日期 2006.03.23
申请号 DE200510035152 申请日期 2005.07.27
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;ALTIS SEMICONDUCTOR SNC, CORBEIL ESSONNES CEDEX 发明人 FERRANT, RICHARD;BRAUN, DANIEL;LOUIS, PASCAL
分类号 H01L27/22;G11C13/00 主分类号 H01L27/22
代理机构 代理人
主权项
地址