发明名称 液晶显示装置
摘要 本发明揭示一种液晶显示装置,根据本发明,在一透明电极经汽相沉积于整个彩色滤光片侧表面上后,一非导电膜会被置于造成问题之透明电极的出现处。即,此非导电膜系以与透明电极之曝露会造成问题之范围之整个或部份上的对准调整膜相同之材料且与该对准调整膜同时形成,以密封该范围之透明电极。藉此可防止当该透明电极经汽相沉积于整个表面上时,造成上述问题,且同时增进该图案化精确度高至曝光精确度(数微米之等级)或类似者,以实现一具有窄图框之产品。
申请公布号 TWI245936 申请公布日期 2005.12.21
申请号 TW093128473 申请日期 2004.09.20
申请人 夏普股份有限公司 发明人 松冈康司;北山宽之;宫本和茂
分类号 G02B5/23;G02F1/133 主分类号 G02B5/23
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种液晶显示装置,其包括: 一彩色滤光片;及 一透明电极,系设置以对应于该彩色滤光片,且延 伸到该彩色滤光片的一中断面; 其中一非导电膜系置于该透明电极上的一区域中, 其系从一图框延伸到该中断面。 2.如请求项1之液晶显示装置, 其中该非导电膜覆盖除在一彩色滤光片侧与一与 其相对之阵列侧间进行接触的一区域外之所有区 域。 3.如请求项2之液晶显示装置, 其中该非导电膜系未设置于该彩色滤光片侧的一 区域中,该区域对应于该阵列侧中未设置导电膜的 一区域。 4.如请求项1之液晶显示装置, 其中调整液晶之对准的一突出状对准调整膜系形 成于该透明电极的一表面上,及 其中该非导电膜系由一与该对准调整膜相同之材 料形成,且与该对准调整膜同时形成。 5.如请求项2之液晶显示装置, 其中调整液晶之对准的一突出状对准调整膜系形 成于该透明电极的一表面上,及 其中该非导电膜系由一与该对准调整膜相同之材 料形成,且与该对准调整膜同时形成。 6.如请求项3之液晶显示装置, 其中调整液晶之对准的一突出状对准调整膜系形 成于该透明电极的一表面上,及 其中该非导电膜系由一与该对准调整膜相同之材 料形成,且与该对准调整膜同时形成。 7.如请求项1之液晶显示装置, 其中一支撑构件系藉由夹置于一彩色滤光片侧及 一与其相对之阵列侧间而形成,其支撑该彩色滤光 片侧与该阵列侧彼此相对,及 其中该非导电膜系由一与该支撑构件相同之材料 形成,且与该支撑构件同时形成。 8.如请求项2之液晶显示装置, 其中一支撑构件系藉由夹置于该彩色滤光片侧及 与其相对之该阵列侧间而形成,其支撑该彩色滤光 片侧与该阵列侧彼此相对,及 其中该非导电膜系由一与该支撑构件相同之材料 形成,且与该支撑构件同时形成。 9.如请求项3之液晶显示装置, 其中一支撑构件系藉由夹置于该彩色滤光片侧及 与其相对之该阵列侧间而形成,其支撑该彩色滤光 片侧与该阵列侧彼此相对,及 其中该非导电膜系由一与该支撑构件相同之材料 形成,且与该支撑构件同时形成。 10.如请求项1之液晶显示装置, 其中该非导电膜系之膜厚度系给定在从0.6微米至5 .5微米的范围中。 11.如请求项2之液晶显示装置, 其中该非导电膜系之膜厚度系给定在一从0.6微米 至5.5微米的范围中。 12.如请求项3之液晶显示装置, 其中该非导电膜系之膜厚度系给定在一从0.6微米 至5.5微米的范围中。 13.如请求项4之液晶显示装置, 其中该非导电膜系之膜厚度系给定在一从0.6微米 至5.5微米的范围中。 14.如请求项5之液晶显示装置, 其中该非导电膜系之膜厚度系给定在一从0.6微米 至5.5微米的范围中。 15.如请求项6之液晶显示装置, 其中该非导电膜系之膜厚度系给定在一从0.6微米 至5.5微米的范围中。 16.如请求项7之液晶显示装置, 其中该非导电膜系之膜厚度系给定在一从0.6微米 至5.5微米的范围中。 17.如请求项8之液晶显示装置, 其中该非导电膜系之膜厚度系给定在一从0.6微米 至5.5微米的范围中。 18.如请求项9之液晶显示装置, 其中该非导电膜系之膜厚度系给定在一从0.6微米 至5.5微米的范围中。 图式简单说明: 图1系显示利用本发明的液晶显示装置之基本构造 的一剖面图; 图2系显示一液晶显示装置之基本构造的剖面图, 其情况系在对应于未置放阵列侧布线图案之区域 中未图案化非导电膜; 图3系显示具有塑胶珠的一液晶显示装置之基本构 造的一剖面图;及 图4系显示一习知液晶显示装置之基本构造的一剖 面图。
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