| 主权项 |
1.一种用于光罩景域布局设计之系统,其包括:使用者介面,用以接收光罩景域布局设计资料;处理装置,其依据预设之光罩景域布局设计规格及规则来验证上述光罩景域布局设计资料,并定义上述光罩景域布局设计资料之识别码;以及光罩景域布局设计资料库,用以储存上述光罩景域布局设计规格及规则、上述识别码、及与上述识别码对应之上述光罩景域布局设计资料。2.如申请专利范围第1项所述之用于光罩景域布局设计之系统,其中上述光罩景域布局设计资料包含与对应之积层电路制造技术资料。3.如申请专利范围第1项所述之用于光罩景域布局设计之系统,其中上述处理装置进一步于上述光罩景域布局设计资料未被验证为正确时,提示修改上述光罩景域布局设计资料。4.如申请专利范围第1项所述之用于光罩景域布局设计之系统,其中上述处理装置进一步藉由上述识别码,将上述光罩景域布局设计资料由上述资料库中撷取出来,以执行修改处理。5.如申请专利范围第4项所述之用于光罩景域布局设计之系统,其中上述处理装置进一步将测试图案加入上述光罩景域布局设计资料。6.如申请专利范围第4项所述之用于光罩景域布局设计之系统,其中上述处理装置进一步将框架单元加入上述光罩景域布局设计资料。7.如申请专利范围第1项所述之用于光罩景域布局设计之系统,其中上述光罩景域布局设计资料库进一步储存上述光罩景域布局设计资料相对应之订单资料。8.如申请专利范围第1项所述之用于光罩景域布局设计之系统,其中上述光罩景域布局资料包含单一电路图案。9.如申请专利范围第1项所述之用于光罩景域布局设计之系统,其中上述光罩景域布局资料包含复数不同的电路图案。10.一种用于光罩景域布局设计之方法,其包括:提供光罩景域布局设计规格及规则;提供光罩景域布局设计资料;依据上述光罩景域布局设计规则,验证上述光罩景域布局设计资料;定义上述光罩景域布局设计资料之识别码;以及将上述光罩景域布局设计资料及上述识别码对应地储存于资料库中。11.如申请专利范围第10项所述之用于光罩景域布局设计之方法,其中上述光罩景域布局设计资料包含与对应之IC制造技术资料。12.如申请专利范围第10项所述之用于光罩景域布局设计之方法,进一步于上述光罩景域布局设计资料未被验证为正确时,提示修改上述光罩景域布局设计资料。13.如申请专利范围第10项所述之用于光罩景域布局设计之方法,进一步藉由上述识别码,将上述光罩景域布局设计资料由上述资料库中撷取出来,以执行修改处理。14.如申请专利范围第13项所述之用于光罩景域布局设计之方法,进一步将测试图案加入上述光罩景域布局设计资料。15.如申请专利范围第13项所述之用于光罩景域布局设计之方法,进一步将框架单元加入上述光罩景域布局设计资料。16.如申请专利范围第10项所述之用于光罩景域布局设计之方法,进一步提供上述光罩景域布局设计资料相对应之订单资料,并将之储存于上述资料库中。17.如申请专利范围第10项所述之用于光罩景域布局设计之方法,其中上述光罩景域布局资料包含单一电路图案。18.如申请专利范围第10项所述之用于光罩景域布局设计之方法,其中上述光罩景域布局资料包含复数不同的电路图案。19.一种储存媒体,用以储存一电脑程式,上述电脑程式可载入于一电脑系统并且执行下述之光罩景域布局设计之方法,上述方法包括:接收光罩景域布局设计规格及规则;接收光罩景域布局设计资料;依据上述光罩景域布局设计规则,验证上述光罩景域布局设计资料;定义上述光罩景域布局设计资料之识别码;以及将上述光罩景域布局设计资料及上述识别码对应地储存于资料库中。20.如申请专利范围第19项所述之储存媒体,其中上述方法进一步于上述光罩景域布局设计资料未被验证为正确时,提示修改上述光罩景域布局设计资料。21.如申请专利范围第19项所述之储存媒体,其中上述方法进一步藉由上述识别码,将上述光罩景域布局设计资料由上述资料库中撷取出来,以执行修改处理。22.如申请专利范围第19项所述之储存媒体,其中上述方法进一步提供上述光罩景域布局设计资料相对应之订单资料,并将之储存于上述资料库中。图式简单说明:第1图显示依据本发明实施例之设计光罩景域布局的方法的流程图。第2图显示依据本发明实施例虚拟晶圆厂的示意图。第3图显示第2图所示之虚拟晶圆厂之细部结构的方块图。第4图显示应用于本发明实施例之电脑系统之方块图。第5图显示第3图所示之光罩景域布局设计系统324之细部结构的方块图。第6图显示依据本发明之实施画面图。第7图显示依据本发明实施例之光罩景域布局设计方法的流程图。第8A及8B图显示依据本发明实施例之光罩景域布局设计的示意图。第9A~9C图显示依据本发明实施例之光罩景域布局设计的示意图。 |
