发明名称 光阻除去方法及光阻除去装置
摘要 本发明之目的在于,提供可高效率地将基板表面的光阻除去之光阻除去方法及光阻除去装置。本发明之基板表面的光阻除去方法;为至少具有:使臭氧溶液作用于处理面之步骤 1、与使有机溶剂作用于处理面之步骤2。
申请公布号 TW200506553 申请公布日期 2005.02.16
申请号 TW093110588 申请日期 2004.04.16
申请人 积水化学工业股份有限公司 发明人 山崎和俊;古野喜彦;藤森洋治
分类号 G03F7/42;H01L21/027 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 日本