| 主权项 |
1.一种光敏性光阻组成物,包含:桂皮酸特丁酯聚合物,其具如下重复单元:其中a=0.3至0.9,b=0.1至0.7,且c=0至0.3;R1=H、甲基,或CH2OR4;R4=H或C1-C4烷基;R2=H、甲基、CH2OR4.CH2CN或CH2X;X=C1.I、Br、F,或CH2COOR5;R5=C1-C4烷基;且R3=异冰片基、环己基甲基、环己基乙基、苯甲基或苯乙基;光酸产生剂;及溶剂。2.如申请专利范围第1项之组成物,其中该桂皮酸特丁酯聚合物具有桂皮酸特丁酯、羟基苯乙烯及苯乙基丙烯酸酷之单体单元。3.如申请有利范围第1项之组成物,其中该桂皮酸特丁酯聚合物具有桂皮酸特丁酯、羟基苯乙烯及异冰片基丙烯酸酯之单体单元。4.如申请专利范围第1项之组成物,其中该桂皮酸特丁酯聚合物进一步包含如下之单体:其中d=0至0.2,e=0至0.2,f=0至0.2,a+b+c+d+e+f=1.0,c+d+e+f=0.2至0.5;R6=甲基或乙基;R7=环状或非环状之基,其系选自一环、双环、线性或分支之烷基、卤素取代之烷基、芳香族基、被取代之芳香族基,其系选自苯基、苯甲基、苯乙基、基或基乙基,该等基选择性地含有一或多个杂原子,x系0或1,且R8系H、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基,或乙醯氧基。5.如申请专利范围第4项之组成物,其中a=0.3至0.7,且b=0.1至0.7。6.如申请专利范围第4项之组成物,其中该桂皮酸特丁酯聚合物具有桂皮酸特丁酯、羟基苯乙烯及特丁基苯乙烯之单体单元。7.如申请专利范围第4项之组成物,其中该桂皮酸特丁酯聚合物具有桂皮酸特丁酯、羟基苯乙烯及苯乙烯之单体单元。8.如申请专利范围第1项之组成物,其中该光酸产生剂系选自盐、化合物、磺酸盐化合物、硫醯亚胺化合物、重氮基甲烷化合物、二及其混合物所组成之族群。9.如申请专利范围第1项之组成物,其中该光酸产生剂系三苯基-2,4,6-三异丙基苯基磺酸盐。10.如申请专利范围第1项之组成物,其中该光酸产生剂系每100份重量之该聚合物为0.5份至20份重量。11.如申请专利范围第1项之组成物,其中该溶剂系选自丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚、1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯、N-甲基咯烷酮、-丁内酯、N,N-二甲基乙醯胺、二甲基-2-啶酮、N,N-二甲基甲醯胺、二甘醇二甲醚、四氢喃、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、2-庚酮、环戊酮、环己酮、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-乙氧基乙基乙酸酯、1-甲氧基-2-丙基乙酸酯、1,2-二甲氧基乙烷乙基乙酸酯、溶纤剂乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯、甲基乳酸酯、乙基乳酸酯、甲基丙酮酸酯、乙基丙酮酸酯、甲基3-甲氧基丙酸酯、乙基3-甲氧基丙酸酯、1,4-二恶烷、乙二醇单异丙基醚、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇单甲基醚、二乙二醇二甲基醚,及其混合物所组成之族群。12.如申请专利范围第11项之组成物,其中该溶剂系丙二醇单甲基醚乙酸酯。13.如申请专利范围第1项之组成物,其中该溶剂系每100份重量之该聚合物为100份至1000份重量。14.如申请专利范围第1项之组成物,其进一步包含硷化合物。15.如申请专利范围第14项之组成物,其中该硷化合物系选自1,5-重氮基双环[4.3.0]壬-5-烯、1,8-重氮基双环[5.4.0]十一碳-7-烯、2,4,5-三苯基咪唑、三甲基丙烷三(2-甲基-乙撑亚胺丙酸酯)、1-环己基-3-(2-吗代乙基)-2-硫代尿素、特勒格尔硷、1-胺基-4-、4-(3-胺基丙基)吗、2-(胺基苯基)-6-甲基苯并唑、三苯甲基胺、1,1,4,7,10,10-六甲基三乙撑基四胺、吗、1,3-双(3-啶基甲基)-2-硫代尿素、4,4"-四甲撑基啶、苯胺、N-甲基苯胺、N,N-二甲基苯胺、邻-甲苯胺、间-甲苯胺、对-甲苯胺、2,4-卢剔啶、、异、甲醯胺、N-甲基-甲醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、乙醯胺、N-甲基-乙醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、2-咯烷酮、N-甲基咯烷酮咪唑、-皮考、-皮考、-皮考、邻-胺基苯甲酸、间-胺基苯甲酸、对-胺基苯甲酸、1,2-苯二胺、1,3-苯二胺、1,4-苯二胺、2-羧酸、2-胺基-4-硝基酚,及三,诸如,2-(对-氯-苯基)-4,6-三氯甲基-s-三、1,3,5-三苯甲基六氢-1,3,5-三、四丁基铵氢氧化物、三甲氧基乙基胺及其混合物所组成之族群。16.如申请专利范围第14项之组成物,其中该硷化合物系每100份重量之该光酸产生剂为1份至50份重量。17.如申请专利范围第1项之组成物,其进一步包含至少一选自表面活性剂、黏着促进剂、均染剂、染料及其等之混合物所组成之族群之组份。18.一种具如下单体单元之桂皮酸特丁酯聚合物,其中a=0.3至0.9,b=0.1至0.7,且c=0至0.3;R1=H、甲基,或CH2OR4;R4=H或C1-C4烷基;R2=H、甲基、CH2OR4.CH2CN或CH2X;X=C1.I、Br、F,或CH2COOR5;R5=C1-C4烷基;且R3=异冰片基、环己基甲基、环己基乙基、苯甲基或苯乙基。19.如申请专利范围第18项之聚合物,其中该桂皮酸特丁酯聚合物进一步包含下述之单体:其中d=0至0.2,e=0至0.2,f=0至0.2,a+b+c+d+e+f=1.0,c+d+e+f=0.2至0.5;R6=甲基或乙基;R7=环状或非环状之基,其系选自一环、双环、线性或分支之烷基、卤素取代之烷基、芳香族基、被取代之芳香族基,其系选自苯基、苯甲基、苯乙基、基或基乙基,该基选择性地含有一或多个杂原子;X系0或1,且R8系H、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基,或乙酸基。20.如申请专利范围第19项之聚合物,其中a=0.3至0.7,且b=0.1至0.7。21.一种形成凸图案之方法,包含下述步骤:a)于基材上涂覆申请专利范围第1项之光阻组成物,藉此,形成被涂覆之基材;b)使该被涂覆基材显像曝照于光化辐射;c)于升高温度使该被涂覆基材后曝照烘烤;d)以水性显影剂使该被涂覆基材显影,藉此,形成显像基材;及e)冲洗该显像基材。22.如申请专利范围第21项之方法,其中该桂皮酸特丁酯聚合物进一步包含下述单体:其中d=0至0.2,e=0至0.2,f=0至0.2,a+b+c+d+e+f=1.0,c+d+e+f=0.2至0.5;R6=甲基或乙基;R7=环状或非环状之基,其系选自一环、双环、线性或分支之烷基、卤素取代之烷基、芳香族基、被取代之芳香族基,其系选自苯基、苯甲基、苯乙基、基或基乙基,该基选择性地含有一或多个杂原子;x系0或1,且R8系H、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基,或乙酸基。23.如申请专利范围第22项之方法,其中a=0.3至0.7,且b=0.1至0.7。24.如申请专利范围第21项之方法,其中该光阻组成物进一步包含一硷化合物。 |
