发明名称 液晶配向处理方法及使用该方法之液晶显示元件
摘要 粘贴研磨抛光轮之基底布,使其纤维轴方向与研磨辊之旋转切接方向斜交,且使研磨辊之旋转轴与基板之移动方向斜交,研磨辊在形成于液晶显示元件用之上下基板上的配向膜上,于第1、第2方向上研磨,藉此,进行决定配向方向之研磨处理,而可得到优良显示品质之液晶显示元件。
申请公布号 TW500950 申请公布日期 2002.09.01
申请号 TW088100794 申请日期 1999.01.19
申请人 松下电器产业股份有限公司 发明人 内藤温胜;望月秀晃;山田聪;松川秀树
分类号 G02F1/133 主分类号 G02F1/133
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种液晶配向处理方法,系在形成于液晶显示元件用的上下基板上的配向膜上,使卷绕有用短纤维植毛的研磨抛光轮的圆筒形研磨辊的旋转轴与前述基板的移动方向成斜交,进行打磨、研磨处理的方法,前述研磨抛光轮被粘贴成使其基底纤维轴方向与前述研磨辊的旋转的切线方向斜交,在前述上下基板的各正常配向方向的交叉角内,且在对前述各正常配向方向成5-30的范围内的研磨方向,进行第1次研磨处理后,进行决定配向方向的第2次研磨处理。2.如申请专利范围第1项所记载的液晶配向处理方法,其中,相对于研磨辊旋转方向的前述研磨抛光轮的基底纤维轴方向与研磨辊的旋转方向所成角度记为、辊的旋转速度为N(rpm)、工作台的移动速度为S(mm/s)、ITO电极宽度为D(mm),则满足关系D<(60S/N)tan3.如申请专利范围第1项或第2项所记载的液晶配向处理方法,其中,前述上下基板的一方是彩色滤光片基板。4.如申请专利范围第1项或第2项所记载的液晶配向处理方法,其中,研磨抛光轮在与研磨辊的旋转方向相当的方向上,加上1kg/cm的拉应力时的延伸率为10%。5.如申请专利范围第1项或第2项所记载的液晶配向处理方法,其中,与所述研磨辊的旋转方向相当的方向上的尺寸,将小于前述旋转辊的圆周的1/n的n块研磨布等间隔地卷绕在前述旋转辊上,其中所述n为2以上的自然数。6.如申请专利范围第1项或第2项所记载的液晶配向处理方法,其中,前述研磨工程在前述毛绒的毛根部与前述配向膜表面之间的最短距离比P cos表示的値小0.2-0.7mm的状态下进行,其中P(mm)为前述毛绒的长度,()为前述毛绒的倾斜角度,其中前述毛绒的倾斜角度系前述毛绒与通过前述毛绒的毛根部的前述旋转辊的外周面的法线所成的角度。7.如申请专利范围第1项或第2项所记载的液晶配向处理方法,其中,在同一方向上对一块基板进行多次研磨。8.一种液晶显示元件,系采用如申请专利范围第1项或第2项所记载的液晶配向处理方法所形成者。9.如申请专利范围第8项所记载的液晶显示元件,其中,使用介电常数异方性小于7,而等方相-液晶相之间的相变温度大于90度,且统一成链烯基系液晶组成或烷基系液晶组成的混合液晶材料。图式简单说明:第1图是示出彩色滤光片侧基板的ITO电极图形成后的状态的模式图。第2图是示出彩色滤光片配置的平面图。第3图是示出与彩色滤光片相对的基板的ITO电极图形成后的状态的模式图。第4图是示出将液晶材料注入做成的空显示板中的状态的剖面图。第5图(a)、(b)是示出第1和第2研磨处理方向的模式图。第6图是示出不均匀条纹的产生机理与消除条件的模式图。第7图为说明不均匀条纹的圆板状模型的模式图。第8图是示出在本发明的研磨方法中使用的研磨布的裁剪方法图。第9图是示出本发明的研磨方法的研磨工程中的研磨辊与基板之间的联系图。第10图是示出本发明的研磨辊的1实施例的剖面图。第11图示出利用习知的研磨方法所制作的液晶显示元件中,产生的显示不均匀。第12图示出利用习知的研磨方法所制作的液晶显示元件中,产生的显示不均匀(亮度不匀)。第13图为研磨布的模式图。第14图为本发明的实施例中使用的研磨布的剖面图。第15a图为习知的制造方法中所使用的研磨布的剖面图。第15b图为本发明的制造方法中所使用的研磨布的剖面图。第16图为液晶显示元件的立体图。第17图为液晶显示元件的剖面图。
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