发明名称 Selective Removal of Contaminants from a Surface Using Magnets
摘要 본 발명은 표면으로부터 오염물을 제거하는 시스템 및 방법에 관한 것이다. 상기 시스템은 목적 오염물 또는 오염물들에 선택적으로 결합할 수 있는 수단을 그위에 가진 입자를 이용하는 것으로 고안되었다. 입자를 표면에 도포하고, 표면 상에서 오염물이 입자에 결합한다. 입자를 제거하면, 목적하는 오염물 또한 제거된다. 바람직하게는, 본 발명에서는 철 함유 자성 입자를 이용한다. 이 입자는 자석을 이용하여 용이하게 제거될 수 있다. 오염물을 입자에 결합시키는 수단은 바람직하게는 목적 오염물을 제거하도록 특이적으로 고안된 리간드 또는 전하를 포함한다. 입자를 표면에 도포하는 것을 촉진시키기 위해 입자를 담체에 포함시킬 수 있다. 본 발명은 피부로부터 오염물을 제거하는데 특히 유용하다.
申请公布号 KR20020047246(A) 申请公布日期 2002.06.21
申请号 KR20027004942 申请日期 2002.04.18
申请人 发明人
分类号 A61K8/02;A61K9/50;A61Q19/10;C07K1/14 主分类号 A61K8/02
代理机构 代理人
主权项
地址