| 摘要 |
<p>L'invention concerne un système optique de projection en réfraction préférable à un appareil d'exposition par projection utilisé en lithographie pour la fabrication d'un microdispositif du type à semiconducteur. Le système de projection optique comprend un groupe de lentille frontale positive, un diaphragme et un groupe de lentille arrière positive. Il s'agit d'un système optique télécentrique des deux côtés. La relation entre la distance focale f2 du groupe de lentille arrière et la distance globale L est exprimée comme suit: 0,065< f2 / L<0,125. Le système de projection optique comprend au moins une surface asphérique (ASP1-ASP6).</p> |
