发明名称 资讯记录载体及其制造方法
摘要 一种资讯记录载体,具有基底,基底具有至少一精细图样列。在基底上,依序地叠加记录层、抗解叠层及保护层。在制造时,首先于基底上形成记录层。然后,将第一树脂施加至记录层。然后固化第一树脂以形成抗解叠层。接着,将第二树脂施加至抗解叠层。然后,将第二树脂固化以形成保护层。
申请公布号 TW394940 申请公布日期 2000.06.21
申请号 TW087112333 申请日期 1998.07.28
申请人 胜利股份有限公司 发明人 近藤哲也
分类号 G11B11/10;G11B7/24 主分类号 G11B11/10
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种资讯记录载体,具有基底,该基底具有至少一 精细图样列,包括依序地叠加于基底上的记录层、 抗解叠层及保护层。2.如申请专利范围第1项之资 讯记录载体,其中该抗解叠层包含伸长率为100%-300% 之树脂,及该树脂包含伸长率为5%或更少之树脂。3 .如申请专利范围第1项之资讯记录载体,其中该记 录层包含至少具有光反射膜、磁光层、相位改变 层或染料层之单层或多层结构。4.如申请专利范 围第3项之资讯记录载体,其中该光反射膜包含铝 、金、银、矽、钛、钽、或铬。5.如申请专利范 围第3项之资讯记录载体,其中该光反射膜包含具 有铝、金、银、矽、钛、钽或铬之合金。6.如申 请专利范围第3项之资讯记录载体,其中该磁光膜 包含TbFeCo、GdFeCo、NdFeCo、钴及铂中的至少一者。7 .如申请专利范围第3项之资讯记录载体,其中该相 位改变膜至少包含GeSbTe或AgInSbTe。8.如申请专利范 围第3项之资讯记录载体,其中该染料膜至少包含 花青染料或偶氮染料。9.如申请专利范围第1项之 资讯记录载体,其中该抗解叠层至少包含照射固化 树脂、热塑树脂或电子束固化树脂。10.一种制造 资讯记录载体之方法,包括下述步骤: 在至少具有一精细图样列的基底上,形成记录层; 将第一树脂施加至记录层; 将施加至记录层之第一树脂固化以形成抗解叠层; 将第二树脂施加至抗解叠层;及 将施加至该抗解叠层之第二树脂固化以形成保护 层。11.如申请专利范围第10项之制造资讯记录载 体之方法,其中使用旋转涂着法、条式涂着法、滚 筒涂着法、喷洒法、浸渍法或印刷法执行该施加 第一树脂之步骤。12.如申请专利范围第10项之制 造资讯记录载体之方法,其中使用光照射法、电子 束照射法、或烘烤法、或它们之混合,执行固化第 一树脂之步骤。13.如申请专利范围第12项之制造 资讯记录载体之方法,其中以50℃-150℃温度下的加 热器或红外线,执行该烘烤法。14.如申请专利范围 第1项之资讯记录载体,进一步包括测试件,设于保 护层上,以致于对测试件解叠层之解叠层测试中, 记录层不会自基底解叠层。15.如申请专利范围第1 项之资讯记录载体,解叠层及保护层之双层呈现70% 或更多的光透射率。图式简单说明: 第一图系显示传统光碟的结构; 第二图系显示根据本发明的资讯记录载体之结构; 及 第三图系表格,解释实施例1-8中的解叠层测试结果 及测试样品1-11。
地址 日本