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发明名称 METHOD OF MANUFACTURING CAPACITOR OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING SPACER LAYER
摘要
申请公布号 KR0183816(B1) 申请公布日期 1999.03.20
申请号 KR19960001397 申请日期 1996.01.23
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 CHOE, JI-HYUN;HWANG, BYUNG-KEUN;LEE, HAE-JUNG;KOO, JOO-SUN
分类号 H01L27/108;(IPC1-7):H01L27/108 主分类号 H01L27/108
代理机构 代理人
主权项
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