| 发明名称 |
RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND MANUFACTURE OF POLYMER TO BE USED FOR SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10288839(A) |
申请公布日期 |
1998.10.27 |
| 申请号 |
JP19970095885 |
申请日期 |
1997.04.14 |
| 申请人 |
JSR CORP |
发明人 |
KOSHIMURA KATSUO;TANABE TAKAYOSHI;YASUDA KENJI;FUKUDA TAKESHI |
| 分类号 |
G03F7/004;C08F4/32;C08F12/22;C08L25/18;G03F7/031;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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