| 摘要 |
<p>La présente invention porte sur de nouveaux composés photosensibles de quinolone, notamment de nouveaux composés de 3-diazo 2,4-quinolinedione qui peuvent être utilisés dans diverses applications, tels que des compositions de revêtement photosensibles, des produits pharmaceutiques, agricoles et autres. L'invention porte également sur un procédé de fabrication de nouveaux composés photosensibles de 3-diazo 2,4-quinolinedione. Ces composés sont notamment utilisés comme composants photoactifs dans une composition de résist positif, et notamment comme résist en ultraviolet (UV) lointain.</p> |
