发明名称 大理石碑刻——蚀刻工艺
摘要 本发明公开的是一种大理石碑刻——蚀刻工艺。它分七大工艺。其中的制版工艺是先描出1∶1阳版,然后将古拓片照像制版为1∶1之阳版,反阴再修和反阳,反拍出与原拓一样粗细,再经标牌工艺、石面处理、晒版、出拓和腐蚀工艺,腐蚀工艺溶化石蜡在大理石四周围起10cm高的蜡墙以50%纯硝酸注入蜡墙,硝酸腐蚀大理石,直至字面凹下1—1.1mm,白漆工艺以酚醛白漆均匀喷涂在大理石表面,两天后用小刀铲起白漆层。采用本发明可在较短的时间内无丝毫之差的复刻出古碑原貌。
申请公布号 CN1085504A 申请公布日期 1994.04.20
申请号 CN92107793.9 申请日期 1992.10.12
申请人 许庆瑞 发明人 许庆瑞
分类号 B44F11/00;B44C1/22 主分类号 B44F11/00
代理机构 江苏省专利服务中心 代理人 沈根水;唐建清
主权项 1、大理石碑刻-蚀刻工艺,其特征是分制版、配制感光液、石面处理、晒版、出拓、腐蚀、白漆等七大工艺,其中制版工艺:手工描出1∶1阳版;进行照像制版,将古拓片照像制版是为1∶1之阳版,将阳版手工修去字外黑影并字内加黑,反阴再修,反阳;石面处理工艺将已磨光的大理石表面用香蕉水清洗,大理石表面喷白漆(硝基白漆),待白漆干燥后以毛刷加老粉水轻刷白漆表面,并清洗;晒版工艺:以感光液均匀喷涂在白漆表面,用离心机将感光液洒匀,用烘干机将感光液烘干,把底版放在烘干的感光液层上,用玻璃板压平,以一千瓦镝灯的光度,离玻璃板0.5m,照射25秒,以30℃温水冲洗感光层,以浓度为25%的酸性黑色染料显影,以10%的稀硝酸液定影,仍以烘干机烘干,至此大理石上已出现清晰的阴文字样;出拓工艺:以香蕉水轻擦字面,感光层下露出白字的白漆被逐渐溶解,直至每个字都清晰的露出大理石面,以白漆修补不完美之处,腐蚀工艺:溶化石蜡,在大理石四周围起10cm高的蜡墙,以50%纯硝酸注入蜡墙,硝酸腐蚀大理石,直至字面凹下1-1.1mm,如超出此深度则字体变粗走型,铲下白漆层;自来水冲刷大理石表面,清除余酸,烘干机烘干大理面,白漆工艺:以酚醛白漆均匀喷涂在大理石表面,两天后用小刀铲起白漆层(字面凹下因此留下白字)。
地址 211500江苏省南京市元合县马厂巷2号