发明名称 观测装置
摘要 一种观测装置,其中用于观测半导体晶圆或类似物件之环境系维持在高洁净度之状态,以利细微图型之正确观测。一用于观测半导体晶圆或类似之物件之主体部份10系安装于一洁净箱3之内部。洁净空气单元4可将洁净空气供应至装有主体部份10之洁净箱3内。洁净箱3位于观测平台14侧向之侧壁上设有可供主体部份10及容器安装空间8使用之开口区80。由洁净空气单元4供应至洁净箱内之洁净空气将通过载有半导体晶圆之观测平台上方、穿过安装于容器安装空间8之卡匣7b、并自开口区80排至洁净箱3之外。如此将可有效防止洁净箱3内所产生之污染物附着于观测平台14上所安装之半导体晶圆、或附着于卡匣7b内所装载之半导体晶圆。
申请公布号 TW460678 申请公布日期 2001.10.21
申请号 TW089121475 申请日期 2000.10.13
申请人 新力股份有限公司 发明人 铃木 保之;宫下 丈人
分类号 F24F1/00;G11B11/00;H01L21/66 主分类号 F24F1/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种观测装置,包括: 一主体部份,可用于观测一受测物件; 一洁净箱,可用于容纳该主体部份;及 一空气供应单元,可将洁净空气供应至该洁净箱内 ; 该主体部份设有一观测平台,可供该受测物件安置 其上;及一卡匣容纳部份,可用于承载一内装该待 测物件之卡匣; 在该洁净箱之一侧表面,其位于该观测平台14及卡 匣容纳部份之侧向,的至少局部设有开口区,以便 使该空气供应单元供应至该洁净箱内之洁净空气 通过该观测平台14之上方、穿过装载于该卡匣容 纳部份之卡匣、并自该洁净箱内排出。2.如申请 专利范围第1项之观测装置,其中该洁净箱设有一 突出部份,其高度约与该平台之下端等高,该突出 部份系朝该主体部份之方向突出。3.如申请专利 范围第2项之观测装置,其中该突出部份之末端与 该主体部份间留有一小段距离。4.如申请专利范 围第1项之观测装置,其中该主体部份之卡匣容纳 部份附近设有一倾斜导件部份,用于将该空气供应 部份供应至该洁净箱内之洁净空气导入装载于该 卡匣容纳部份之卡匣中。5.如申请专利范围第1项 之观测装置,其中该主体部份中设有一可供该受测 物件安置其上之观测平台,且其中该观测平台与该 卡匣容纳部份间设有一隔间壁部份,用以区隔该观 测平台与该卡匣容纳部份所在之区域。6.如申请 专利范围第1项之观测装置,其中该主体部份包括 一观测单元,可用于将紫外线射于该受测物件,并 侦测反射光或传导光,藉以观测该物件。图式简单 说明: 第一图为本发明观测装置之整体透视图。 第二图显示该装置主体部份之内部,观察方向为第 一图中箭头A1所示之方向,该主体部份系位于该观 测装置之一洁净箱内。 第三图为该观测装置主体部份之顶视平面示意图 。 第四图为该观测装置一示范结构之方块图。 第五图显示该观测装置中光学单元之光学系统示 范结构。 第六图为一流程图,显示如何在该观测装置中观测 半导体晶圆之基本程序。 第七图a显示参考区域中的典型影像(其为一参考 影像),其中形成一类似正在观测中的区域中的装 置图案之装置图案。 第七图b显示在一受观测而有缺陷区域中的影像, 其为一有缺陷影像。 第七图c显示基于彩色资讯或灰阶资讯撷取自参考 影像的装置图案。 第七图d显示代表撷取缺陷的结果之影像。 第七图e显示代表关于缺陷的特征量的影像。 第八图为一透视示意图,显示该观测装置之洁净箱 在与洁净空气单元分离后之情形。 第九图为该观测装置中洁净箱之侧视图,观察方向 为第二图中箭头A2所示之方向。 第十图为该观测装置主体部份之透视图。
地址 日本