| 发明名称 |
METHODS OF SELECTIVELY DIFFUSING IMPURITIES INTO SEMICONDUCTORS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2168194(A) |
申请公布日期 |
1986.06.11 |
| 申请号 |
GB19850029057 |
申请日期 |
1985.11.26 |
| 申请人 |
* SONY CORPORATION |
发明人 |
MASARU * WADA;YOJI * KATO |
| 分类号 |
H01L21/22;H01L21/033;H01L21/223;(IPC1-7):H01L21/223;H01L21/302 |
主分类号 |
H01L21/22 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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