移动体装置、曝光装置与曝光方法以及元件制造方法

摘要

本发明之装置与方法可将曝光精度维持在高精度。因送电废热框架24A、24B能够总是吸收由晶圆台WST1、WST2所辐射的热，故可抑制晶圆台中产生的热对曝光精度的影响。于此情形时，无须如先前将供给冷却剂的配管(软管)自外部连接至晶圆台，故而可防止因配管张力所导致的晶圆台移动精度的下降，由此而言亦能够将曝光精度维持在高精度。