发明名称 |
散热膜形成方法 |
摘要 |
本发明提供一种散热膜形成方法,能够只在部件的期望的部位高效地形成散热层。提供一种形成散热膜(5)的散热膜形成方法,该散热膜形成方法具有以下工序:在使以二氧化硅为主要成分的散热涂敷剂与熔点比该散热涂敷剂的烧制温度高的钎料板(6)接触后进行烧制,从而在钎料板(6)上形成散热膜(5);以及将形成有散热膜(5)的钎料板(6)配置到排气岐管(2)的被钎焊部(20)上进行钎焊,从而在排气岐管(2)上形成散热膜(5)。 |
申请公布号 |
CN106424995A |
申请公布日期 |
2017.02.22 |
申请号 |
CN201610556642.9 |
申请日期 |
2016.07.14 |
申请人 |
本田技研工业株式会社 |
发明人 |
畠山由章 |
分类号 |
B23K1/00(2006.01)I;B23K1/20(2006.01)I |
主分类号 |
B23K1/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
李辉;蔡丽娜 |
主权项 |
一种形成散热膜的散热膜形成方法,其具有以下工序:在使以二氧化硅为主要成分的散热涂敷剂与熔点比该散热涂敷剂的烧制温度高的钎料板接触后进行烧制,从而在所述钎料板上形成散热膜,以及将形成有所述散热膜的钎料板配置到部件的被钎焊部上进行钎焊,从而在所述部件上形成散热膜。 |
地址 |
日本东京都 |