一种增强金属铜与NDC界面结合强度的方法

摘要

本发明提供一种增强金属铜与NDC界面结合强度的方法，至少包括以下步骤：1）于低k介质层中形成通孔结构，于所述通孔结构填充金属铜；2）于所述低k介质层及金属铜表面形成C₉H₂₇NSi₃薄层；3）通入C₉H₂₇NSi₃气体及He并进行等离子体处理，使所述C₉H₂₇NSi₃薄层及C₉H₂₇NSi₃气体与He反应，于所述低k介质层及金属铜表面形成富Si的SiCN层；4）对所述富Si的SiCN层进行N等离子体处理，使所述富Si的SiCN层中的Si与N反应，形成富SiN的SiCN层；5）于所述富SiN的SiCN层表面形成NDC层。本发明采用C₉H₂₇NSi₃与He反应形成富Si的SiCN层，然后通过N等离子体处理形成富SiN的SiCN层，可以有效增强金属铜与NDC界面结合，并不会与金属铜反应形成合金，有效提高了器件的性能。本发明工艺步骤简单，适用于工业生产。

主权项

一种增强金属铜与NDC界面结合强度的方法，所述NDC为氮掺杂的碳化硅，其特征在于，至少包括以下步骤：1)于低k介质层中形成通孔结构，于所述通孔结构填充金属铜；2)于所述低k介质层及金属铜表面形成C₉H₂₇NSi₃薄层；3)通入C₉H₂₇NSi₃气体及He并进行等离子体处理，使所述C₉H₂₇NSi₃薄层及C₉H₂₇NSi₃气体与He反应，于所述低k介质层及金属铜表面形成富Si的SiCN层；4)对所述富Si的SiCN层进行N等离子体处理，使所述富Si的SiCN层中的Si与N反应，形成富SiN的SiCN层；5)于所述富SiN的SiCN层表面形成NDC层。