反应感应单元及基板处理装置

摘要

明提供一种基板处理装置。该基板处理装置包括：制程腔室；基板基座，其安装于制程腔室中且可旋转地连接至旋转轴，其中复数个基板置放于该基板基座之相同平面上；加热器构件，其位于该基板基座之底表面上；以及反应感应单元，其在对应于置放于该基板基座上的该复数个基板中每一者的位置处将气体喷射于基板上以用于该等基板之处理，其中该等反应感应单元具有由至少三个或三个以上堆叠板形成的多层复杂通道。

主权项

一种基板处理装置，其包含：一制程腔室；一基板基座，其安装于该制程腔室中且可旋转地连接至一旋转轴，其中复数个基板置放于该基板基座之相同平面上；一加热器构件，其位于该基板基座之一底表面上；以及反应感应单元，其在对应于置放于该基板基座上的该复数个基板中每一者的一位置处将一气体喷射于表面上以用于该复数个基板之一处理；该反应感应单元具有由至少三个或三个以上堆叠板形成的一多层复杂通道；该反应感应单元包含一顶板，其具有至少一个或多个气体注射埠；一中板，其堆叠于该顶板下方且具有第一通道及第一穿通孔；以及一底板，其堆叠于该中板下方且具有第二通道。