发明名称 |
半导体叠层封装方法 |
摘要 |
本发明提供一种半导体叠层封装方法,包括:A:制作上封装体,B:基于四边扁平无引脚QFN框架制作中层封装体,C:将上封装体和下封装体叠层封装,步骤B包括:S101:提供一QFN框架,QFN框架的边缘两侧为金属凸点;S102:将芯片连接在所述QFN框架正面并进行打线;S103:通过塑封底填料将芯片固定和封装在所述QFN框架上,形成塑封体;S104:在塑封体的两侧金属凸点的上表面或者下面形成焊球。本发明提供的封装方法,利用传统的QFN框架边缘的金属凸点作为电极形成中层封装体,实现三层塑封体的堆叠,从而实现芯片在一个封装体中上下电性导通;利用QFN框架形成中层封装体节省封装空间,有利于实现芯片封装的微型化,提高芯片封装的集成度。 |
申请公布号 |
CN105097569A |
申请公布日期 |
2015.11.25 |
申请号 |
CN201510461039.8 |
申请日期 |
2015.07.30 |
申请人 |
南通富士通微电子股份有限公司 |
发明人 |
石磊 |
分类号 |
H01L21/50(2006.01)I;H01L21/56(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/50(2006.01)I |
代理机构 |
北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 |
代理人 |
孟阿妮;郭栋梁 |
主权项 |
一种半导体叠层封装方法,包括:A:制作上封装体,B:基于四边扁平无引脚QFN框架制作封装有芯片的中层封装体,C:将所述上封装体、所述中层封装体和所述下封装体叠层封装,其特征在于,所述步骤B包括:S101:提供一QFN框架,所述QFN框架的边缘两侧为金属凸点;S102:将芯片连接在所述QFN框架正面并进行打线;S103:通过塑封底填料将上述芯片固定和封装在所述QFN框架上,形成塑封体;S104:在上述塑封体的两侧金属凸点的上表面或者下面形成焊球。 |
地址 |
226006 江苏省南通市崇川区崇川路288号 |