| 发明名称 | 图案化基板之方法 | ||
| 摘要 | |||
| 申请公布号 | TWI505326 | 申请公布日期 | 2015.10.21 |
| 申请号 | TW101149512 | 申请日期 | 2012.12.24 |
| 申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 旦恩 雪诺Ｗ;海哲 大卫 |
| 分类号 | H01L21/027;H01L21/033 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 代理人 | 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 | |
| 主权项 | 一种使基板图案化的方法，包含：在一基板上形成一辐射敏感性材料层；使用一微影程序在该辐射敏感性材料层中制备一图案，该图案之特征在于一临界尺寸(CD)及一粗糙度；在该制备该图案后，执行一CD缩窄程序以将该CD减少至一缩减CD；以及在该CD缩窄程序期间执行一蒸气平滑化程序以将该粗糙度减少至一减低粗糙度。 | ||
| 地址 | 日本 | ||