| 发明名称 | 制造微阵列的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种制备微阵列的方法，其包括：为基底提供具有第一轮廓的离散的第一微观特征；以及将气相涂覆的材料沉积到所述第一微观特征上，以形成具有与所述第一轮廓基本不同的第二轮廓的第二微观特征。本发明还提供了一种将复制材料添加到所述气相涂覆的微观特征上以形成模具的方法。通过该方法制备的微阵列可用作用于表面增强拉曼光谱分析(SERS)的基底。 | ||
| 申请公布号 | CN101910829A | 申请公布日期 | 2010.12.08 |
| 申请号 | CN200880123717.8 | 申请日期 | 2008.10.14 |
| 申请人 | 3M创新有限公司 | 发明人 | 张俊颖;特里·L·史密斯;张海燕;杰罗姆·C·波尔凯;王丁;约翰·C·胡尔滕;利萨·A·迪克 |
| 分类号 | G01N21/65(2006.01)I;G02B6/122(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;G02B6/10(2006.01)I | 主分类号 | G01N21/65(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 张爽;樊卫民 |
| 主权项 | 一种制备阵列的方法，该方法包括：在基底上提供多个离散的第一微观特征，其中所述第一微观特征中的每个都具有第一轮廓；以及在所述第一微观特征上沉积材料以形成具有与所述第一轮廓基本不同的第二轮廓的第二微观特征，其中所述第二微观特征中的至少一个不包括基本平坦的表面。 | ||
| 地址 | 美国明尼苏达州 | ||