发明名称 Cu−Ga合金スパッタリングターゲット及びその製造方法
摘要 【課題】Cu−In−Ga−Se化合物膜(CIGS溝膜)型太陽電池の光吸収層のためのCIGS膜の形成に使用する高濃度のGa成分を有するCu−Ga合金焼結体によるスパッタリングターゲットに関して、パーティクル発生を低減でき、酸素含有量を更に低減可能であると共に、高濃度のNaを含有しつつも、異常放電を一層抑制したスパッタリングターゲット及びその製造方法の提供。【解決手段】Ga:29.5〜43.0原子%と、残部:Cu及び不可避不純物との組成を有する焼成体であって、該焼成体におけるCu−Ga合金結晶粒は、γ相粒子がγ1相結晶粒中に分散した平均粒径が、15.0〜75.0μmである組織を有するCu−Ga合金スパッタリングターゲット。前記焼成体の酸素量が200質量ppm以下であり、更にNaが0.05〜10.0原子%を含有し、Na化合物相として分散しているCu−Ga合金スパッタリングターゲット。【選択図】なし
申请公布号 JP5743119(B1) 申请公布日期 2015.07.01
申请号 JP20140013184 申请日期 2014.01.28
申请人 三菱マテリアル株式会社 发明人 吉田 勇気;石山 宏一;森 暁
分类号 C23C14/34;B22F1/00;B22F3/10;C22C1/04;C22C1/05;C22C9/00 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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