发明名称 |
一种镁合金表面微弧氧化制备高吸光率的黑色陶瓷膜层工艺 |
摘要 |
本发明公开了一种镁合金表面微弧氧化制备高吸光率的黑色陶瓷膜层工艺。本发明以硅酸盐或磷酸盐为主盐的电解液中,采用交流双极性脉冲电源对镁合金进行微弧氧化处理。本发明的镁合金表面微弧氧化制备高吸光率的黑色陶瓷膜层电解液成分简单,易操作,对环境污染小,所得黑色陶瓷膜层既具有良好的耐腐蚀、高光吸收率性能,又具有很好的表观装饰性,能满足实际应用要求。 |
申请公布号 |
CN104694993A |
申请公布日期 |
2015.06.10 |
申请号 |
CN201310649416.1 |
申请日期 |
2013.12.06 |
申请人 |
中国科学院兰州化学物理研究所 |
发明人 |
彭振军;梁军;刘百幸;周兆福 |
分类号 |
C25D11/30(2006.01)I |
主分类号 |
C25D11/30(2006.01)I |
代理机构 |
兰州中科华西专利代理有限公司 62002 |
代理人 |
方晓佳 |
主权项 |
一种镁合金表面微弧氧化制备高吸光率的黑色陶瓷膜层工艺,其特征在于陶瓷膜层通过以下方案来制备:1)前处理:将镁合金打磨,清洗、干燥后待用;2)微弧氧化制备过程:采用设备为微弧氧化设备,该设备由控制电源及控制系统,电解槽,搅拌系统,冷却系统组成;以片状镁合金作为阳极,不锈钢为阴极,将前处理完后的镁合金浸泡在电解液中,开启循环冷却,采用交流双极性脉冲电源对镁合金进行微弧氧化处理;所述的电解液由10~40g/L硅酸钠,5~30g/L磷酸钠,3~20g/L氟化氨,1~15g/L钒酸钠,2~10g/L偏钒酸铵和水组成,以上物质的量均以加入水的体积为计算基准;所述的交流极性脉冲电源对镁合金进行微弧氧化处理,处理正电压为400~500 V,处理负电压为20~150V,电源脉冲频率为150~300Hz,脉冲占空比为10%~40%,正负脉冲个数比为1~5:1;完成后取出镁合金样并用水冲洗、干燥得到30~50μm的黑色多功能性陶瓷膜。 |
地址 |
730000 甘肃省兰州市城关区天水中路18号 |