成像光学系统、具有此类型成像光学系统之用于微影的投射曝光设备以及用于制造结构化组件的方法;IMAGING OPTICAL SYSTEM, PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE AND METHOD FOR PRODUCING A STRUCTURED COMPONENT

摘要

本发明揭示一种成像光学系统(7)，具有复数个反射镜(M1至M8)将物体平面(5)的物体场(4)成像于影像平面(9)的影像场(8)中。该成像光学系统(7)具有光瞳屏蔽。在物体场(4)及影像场(8)间之成像光(3)的光束路径中的最后一个反射镜(M8)具有让成像光(3)通过的通孔(18)。该成像光学系统(7)在物体场(4)及影像场(8)间之成像光(3)的光束路径中的倒数第二反射镜(M7)没有让成像光(3)通过的通孔。该成像光学系统(7)具有正好八个反射镜(M1至M8)。结果形成一种成像光学系统，可用以达成较小成像误差、可管理的生产及成像光的较佳通量的可操纵组合。