光刻设备和器件制造方法

摘要

本发明涉及一种光刻设备和器件制造方法。光刻设备包括：投影系统、承载装置和驱动系统，驱动系统用于在参考正交的轴线X和Y定义的平面中相对于投影系统移动承载装置，其中：驱动系统包括：穿梭件，构造成且布置成平行于Y轴线移动；穿梭件连接器，用于将穿梭件连接至承载装置，穿梭件连接器被使得允许承载装置沿着平行于X轴线的方向相对于穿梭件移动；和穿梭件驱动器，用于平行于Y轴线驱动穿梭件移动，其中：穿梭件沿着平行于X轴线的方向仅定位至承载装置的一侧，仅穿梭件中的一个连接至承载装置；且穿梭件驱动器和穿梭件连接器配置成供给由驱动系统施加至承载装置的力的Y分量的至少10％。

主权项

一种光刻设备，所述光刻设备包括：投影系统（PS），布置成将图案从图案形成装置转移至衬底上；承载装置（8）；和驱动系统（PW），用于在通过参考轴线X和Y定义的平面中相对于所述投影系统移动所述承载装置，轴线X和Y是彼此正交的，其中：所述驱动系统（PW）包括：磁体和线圈系统，用于将平行于X轴线和Y轴线中的指定的一个的力的分量应用至承载装置（8）；穿梭件（2），构造成且布置成平行于所述Y轴线移动；穿梭件连接器（4），用于将所述穿梭件（2）连接至所述承载装置，所述穿梭件连接器被使得允许所述承载装置沿着平行于所述X轴线的方向相对于所述穿梭件（2）移动；和穿梭件驱动器（16），用于平行于所述Y轴线驱动所述穿梭件（2）移动，其中：所述穿梭件（2）沿着平行于所述X轴线的方向仅定位至所述承载装置（8）的一侧，并且所述穿梭件（2）连接至所述承载装置（8）；和所述穿梭件驱动器（16）和穿梭件连接器（4）配置成平行于通过磁体和线圈系统应用至承载装置（8）的力的分量供给力的Y分量至承载装置（8）。