| 发明名称 | 喷嘴清洁装置、涂布装置、喷嘴清洁方法以及涂布方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种喷嘴清洁装置、涂布装置、喷嘴清洁方法以及涂布方法，在清洁与狭缝喷嘴的擦拭相关的构件时，雾气等不会附着在会影响被处理体的涂布性能的部分。形成着密闭空间(L1)，通过擦拭来去除狭缝喷嘴(30)的附着物(100)的擦拭构件(41)的清洁是在所述密闭空间(L1)内进行的。此外，在密闭空间(L1)内设置着将密闭空间(L1)内部的气液排出至装置外部的排出口(491)。因此，用于清洁擦拭构件(41)的双流体清洁液(wL)或因该清洁而产生的雾气从所述排出口(491)被排出至装置外部，而不会附着在装置内部中的密闭空间(L1)的外部。 | ||
| 申请公布号 | CN104043553A | 申请公布日期 | 2014.09.17 |
| 申请号 | CN201410058418.8 | 申请日期 | 2014.02.20 |
| 申请人 | 大日本网屏制造株式会社 | 发明人 | 高木善则;大森雅文;冈田広司 |
| 分类号 | B05B15/02(2006.01)I;B05C5/02(2006.01)I;B05D1/02(2006.01)I;B08B1/00(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;B08B7/04(2006.01)I | 主分类号 | B05B15/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 张洋 |
| 主权项 | 一种喷嘴清洁装置，对从狭缝状的开口喷出涂布液的狭缝喷嘴实施清洁处理；其特征在于包括：去除元件，具有滑动接触于所述狭缝喷嘴的滑动接触面，且使用所述滑动接触面来去除附着在所述狭缝喷嘴的附着物；支撑元件，支撑所述去除元件；驱动元件，通过驱动所述支撑元件而使所述去除元件沿着所述狭缝喷嘴的开口部滑动；密闭元件，形成规定的密闭空间，且将所述去除元件、所述支撑元件、以及所述驱动元件中的至少所述去除元件的所述滑动接触面密闭在所述密闭空间内；清洁元件，具有在所述密闭空间的内部开设的供给口，且从所述供给口对所述去除元件供给清洁液；以及排出元件，具有在所述密闭空间的内部开设的排出口，且将所述密闭空间内的气液从所述装置排出。 | ||
| 地址 | 日本京都市上京区堀川通寺之内上4丁目天神北町1番地之1 | ||