用于等离子体施加器的气体喷射器设备

摘要

本发明提供一种结合反应性气体源使用的等离子体腔室，其包括：第一管道，第一管道包括壁、入口、出口、内表面和外表面以及穿过壁的多个开口，入口接收第一气体以与形成于第一管道中的等离子体在第一管道中生成反应性气体。该等离子体腔室还包括第二管道，第二管道包括壁、入口和内表面。第一管道安置于第二管道中，在第一管道的外表面与第二管道的内表面之间限定通道。向第二管道的入口供应的第二气体沿着该通道流动并且通过第一管道的壁的多个开口到第一管道内以包围第一管道中的反应性气体和等离子体。

主权项

一种结合反应性气体源使用的等离子体腔室，包括：第一管道，所述第一管道包括壁、入口、出口、内表面和外表面以及穿过所述壁的多个开口，所述入口接收第一气体以与形成于所述第一管道中的等离子体在所述第一管道中生成反应性气体；以及第二管道，所述第二管道包括壁、入口和内表面，其中所述第一管道安置于所述第二管道中，在所述第一管道的外表面与所述第二管道的内表面之间限定通道，其中向所述第二管道的入口供应的第二气体沿着所述通道流动并且通过所述第一管道的壁的多个开口到所述第一管道内，以包围所述第一管道中的所述反应性气体和等离子体。