用于晶片边缘曝光的方法、光学模块和自动聚焦系统

摘要

本发明公开了一种用于晶片边缘曝光的方法、光学模块和自动聚焦系统。所述光学模块包括光源、具有孔的掩模板和曝光光学器件。光源用于发射使光致抗蚀剂曝光所需波长的光。掩模板位于光源和曝光光学器件之间，从光源发射的光经过掩模板后到达曝光光学器件。曝光光学器件用于将掩模板的孔成像到涂敷有光致抗蚀剂的晶片边缘，以形成聚焦的光斑。光源、具有孔的掩模板和曝光光学器件的位置以及孔的尺寸被设置为使得入射光的光轴垂直于晶片表面，并且使得光斑在晶片上沿晶片径向完全覆盖晶片边缘。由此，可以更精确地去除晶片边缘上的光致抗蚀剂。

主权项

一种用于晶片边缘曝光的光学模块，包括光源、具有孔的掩模板和曝光光学器件，所述光源用于发射使光致抗蚀剂曝光所需波长的光，所述掩模板位于所述光源和所述曝光光学器件之间，从所述光源发射的光经过所述掩模板后到达所述曝光光学器件，所述曝光光学器件用于将所述孔成像到涂敷有光致抗蚀剂的晶片边缘，以形成聚焦的光斑，其中所述光源、具有孔的掩模板和曝光光学器件的位置以及所述孔的尺寸被设置为使得入射光的光轴垂直于晶片表面，并且使得所述光斑在晶片上沿晶片径向完全覆盖所述晶片边缘。