mÉtodo para remover partÍculas de um substrato e mÉtodo para remover partÍculas de areia da superfÍcie de ao menos um revestimento protetor dispositivo em um substrato de liga para temperaturas superelevadas

摘要

MÉTODO PARA REMOVER PARTÍCULAS DE UM SUBSTRATO E MÉTODO PARA REMOVER PARTÍCULAS DE AREIA DA SUPERFÍCIE DE AO MENOS UM REVESTIMENTO PROTETOR DISPOSTO EM UM SUBSTRATO DE LIGA PARA TEMPERATURAS SUPERELEVADAS. Trata-se de descrever um método para remover partículas de areia de um substrato. O método inclui a etapa de tratar o substrato com uma solução de ácido compreendendo H~ x~AF~ 6~, sendo que se seleciona A do grupo que consiste em Si, Ge, Ti, Zr, AI, e Ga, e no qual o H~ x~AF~ 6~ está presente em uma concentração entre aproximadamente 5 por cento de peso e aproximadamente 40 por cento de peso.