发明名称 触控面板的制造方法
摘要 本发明涉及一种触控面板的制造方法,首先,于一基板的表面上依序形成一第一导电层、一第二导电层以及一第一光阻层。接着,使用一灰阶光罩图案化第一光阻层,并利用图案化的第一光阻层蚀刻第一以及第二导电层以形成触控面板的第一感测电极。接着,于基板以及第一感测电极上形成一绝缘层,并使用一灰阶光罩图案化绝缘层。然后,于图案化的绝缘层上形成一第三导电层,接着形成一第二光阻层于第三导电层上,并图案化第二光阻层以暴露出部分的第三导电层。最后,利用图案化的第二光阻层蚀刻第三导电层以形成触控面板之第二感测电极。
申请公布号 CN102855042A 申请公布日期 2013.01.02
申请号 CN201210320440.6 申请日期 2012.09.03
申请人 福建华映显示科技有限公司;中华映管股份有限公司 发明人 游家维;邱启明;吕雅茹
分类号 G06F3/044(2006.01)I 主分类号 G06F3/044(2006.01)I
代理机构 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人 蔡学俊
主权项 一种触控面板的制造方法,其特征在于:包括下列步骤:于一基板的表面上依序形成一第一导电层、一第二导电层以及一第一光阻层;使用一第一灰阶光罩图案化该第一光阻层;利用该图案化第一光阻层蚀刻该第一导电层以及该第二导电层以定义出该触控面板的一第一感测电极;形成一第一绝缘层于该基板以及该第一感测电极上;使用一第二灰阶光罩图案化该第一绝缘层以形成具不同厚度的图案化第一绝缘层,其中覆盖在该第一感测电极之上的该图案化第一绝缘层具有最大的厚度;形成一第三导电层于该图案化第一绝缘层上;形成一第二光阻层于该第三导电层上;图案化该第二光阻层以暴露出部分之该第三导电层;以及利用该图案化第二光阻层蚀刻该第三导电层以定义出该触控面板的一第二感测电极。
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