发明名称 | 一种高真空陶瓷LCC封装方法 | ||
摘要 | 本发明属于MEMS器件封装技术领域,具体涉及一种高真空陶瓷LCC封装方法。按照本方法所述步骤依次经过等离子清洗、共晶贴片、引线互连、吸气剂激活和共晶封接完成封装的MEMS器件满足如下要求:封装腔体内的真空度小于1Pa,保存期限大于等于15年,实现了硅微陀螺Q值约为15万的封装。通过采用等离子清洗方法,提高了封装质量,降低了封装体的整体漏率,即外漏问题;通过选用与封接焊料相同的贴片焊料进行共晶的方法进行贴片,减少了封装体内部材料的放气量;通过吸气剂激活,可有效吸附封装体内释放的少量气体,保证了封装体内的较好真空度。 | ||
申请公布号 | CN102040186A | 申请公布日期 | 2011.05.04 |
申请号 | CN201010538418.X | 申请日期 | 2010.11.09 |
申请人 | 北京自动化控制设备研究所 | 发明人 | 杨军;郑辛;王登顺;丁凯;安泰;余凯;章敏明 |
分类号 | B81C1/00(2006.01)I | 主分类号 | B81C1/00(2006.01)I |
代理机构 | 核工业专利中心 11007 | 代理人 | 高尚梅 |
主权项 | 一种高真空陶瓷LCC封装方法,其特征在于步骤依次如下:(1)对待封装零件进行等离子清洗;(2)共晶贴片,把微结构芯片(5)贴装至陶瓷LCC(3)上;(3)引线互连,将微结构芯片(5)与陶瓷LCC(3)电气连接;(4)将吸气剂(4)激活;(5)共晶封接,把密封盖板(1)与陶瓷LCC(3)封接在一起。 | ||
地址 | 100074 北京市丰台区云岗北区西里1号院 |