发明名称 一种具有密度梯度孔的中空纤维膜及制法
摘要 本发明涉及一种聚偏氟乙烯多孔中空纤维膜及其制备方法,其制膜的配方成份及其含量以质量百分比计:第一聚合物P1:聚偏氟乙烯(PVDF)25~45%;第二聚合物P2:聚乙烯吡咯烷酮(PVP)0~3%;第一稀释剂D1:乙二醇二乙酸酯32~45%;第二稀释剂D2:1,3-丙二醇15~36%;采用本发明制备的PVDF中空纤维超、微滤膜,具有优良的化学稳定性,抗污染、强度高的中空纤维膜,能为MBR工艺提供高性能的膜产品。
申请公布号 CN101890307A 申请公布日期 2010.11.24
申请号 CN201010153150.8 申请日期 2010.04.23
申请人 苏州膜华材料科技有限公司 发明人 奚韶锋;洪耀良;陈仙
分类号 B01D71/34(2006.01)I;B01D69/08(2006.01)I 主分类号 B01D71/34(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种聚偏氟乙烯多孔中空纤维膜,其制膜的成份及其含量以质量百分比计:第一聚合物P1:聚偏氟乙烯(PVDF)      25~45%第二聚合物P2:聚乙烯吡咯烷酮(PVP)   0~3%第一稀释剂D1:乙二醇二乙酸酯        32~45%第二稀释剂D2:1,3‑丙二醇           15~36%。
地址 215200 江苏省苏州市吴江经济开发区柳胥路479号