| 发明名称 | 通过共注入而在基底中形成弱化区的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种薄层制造方法，其中，通过在基底(1)中注入化学物质产生弱化埋入区，以便之后可沿着所述弱化区开始所述基底(1)的断裂，以从其分离出所述薄层(6)。根据本发明，所述制造方法尤其包括以下步骤：a)在基底(1)中的主深度(5)的主化学物质(4)的主注入；b)在基底(1)中的不同于所述主深度(5)的次深度(3)的至少一种次化学物质(2)的至少一次次注入，其中所述次化学物质(2)在弱化基底(1)方面的效力不及主化学物质(4)，并且其浓度高于主化学物质(4)的浓度；c)所述次化学物质(2)的至少一部分向主深度(5)附近迁移；以及d)沿着主深度(5)开始所述断裂。本发明同样涉及借助本发明方法获得的薄层。 | ||
| 申请公布号 | CN100587940C | 申请公布日期 | 2010.02.03 |
| 申请号 | CN200380102438.0 | 申请日期 | 2003.10.31 |
| 申请人 | 原子能委员会 | 发明人 | B·阿斯帕;C·拉格;N·苏斯比;J-F·米乔德 |
| 分类号 | H01L21/762(2006.01)I;H01L21/265(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/762(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王 杰 |
| 主权项 | 1.薄层制造方法，其中，通过在基底(1)中注入化学物质产生弱化埋入区，以便之后可沿着所述弱化区开始所述基底(1)的断裂，以从其分离出所述薄层(6)，所述方法的特征在于包括以下步骤：a)在基底(1)中的主深度(5)的主化学物质(4)的主注入，并且b)在基底(1)中的不同于所述主深度(5)的次深度(3)的至少一种次化学物质(2)的至少一次次注入，其中所述次化学物质(2)在弱化基底(1)方面的效力不及主化学物质(4)，并且其浓度高于主化学物质(4)的浓度，其中所述步骤a)和b)可以按照任意顺序实施，并且该方法还包括以下步骤：c)所述次化学物质(2)的至少一部分向主深度(5)附近迁移，以及d)沿着主深度(5)开始所述断裂。 | ||
| 地址 | 法国巴黎 | ||